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钨化学气相淀积设备-公开招标公告

发布时间
2026-10-08
发布时间 2026-10-08 项目编号 详见内容
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项目名称:钨化学气相淀积设备-公开招标公告

项目编号:*****

日期:2026-10-08

采购单位:*****

招标公告 1. 招标条件 本招标项目钨化学气相淀积设备招标人为中国电子科技集团公司第二十四研究所,招标项目资金来自自筹资金,出资比例为100%。该项目已具备招标条件,现对钨化学气相淀积设备进行国内公开招标。 2. 项目概况与招标范围 2.1 招标编号:ZKX20260429A004 2.2 招标项目名称:钨化学气相淀积设备。 2.3数量: :1台。 2.4 主要内容:该设备为国产全新8寸钨化学气相淀积设备,支持SMIF(晶舟装/卸载机构),RFID(晶舟射频识别)、EAP和FDC通讯功能,配置1个Cooling腔、1个TM腔、4个PM腔和2个SMIF,厂商需要提供包含泵、chiller、尾气处理器与WF6源柜等所有附属设备,主要用于实现8英寸半导体集成电路制造流程中的厚膜大尺寸钨塞工艺。 2.5 交货地点:重庆沙坪坝西永微电园西永大道23号。 2.6 交货期:合同生效后50天 。 3. 投标人资格要求 3.1 依法设立的证明:投标人须具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织,具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。 3.2 业绩要求:投标人需提供2023年1月1日至今已签订的本次投标“相同设备”或“同系列型号、相同功能”8寸及以上平台W-CVD设备销售业绩≥5台(投标人业绩与制造商业绩均认可),须提供设备采购合同复印件等证明材料,其内容须体现合同首页及签字或盖章页、合同签订时间、合同标的物及其型号、8寸及以上钨化学气相淀积或钨金属淀积功能。未按上述要求提供的业绩证明不予认可。 3.3 其它要求:本项目接受代理商投标,如代理商投标,需提供所投产品制造商针对本项目的授权证明文件,同一品牌同一型号产品仅能授权...

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